國產拋光硅片檢測

    健明迪檢測提供的國產拋光硅片檢測,檢測標準(部分) BSISO14706-2000表面化學分析用全反射X射線熒光(TXRF)分光術測定硅片的表面基本污染 BSISO14706-2000(R200,具有CMA,CNAS認證資質。
    國產拋光硅片檢測
    我們的服務 國產拋光硅片檢測

    檢測流程

    1、溝通檢測產品、項目、需求。

    2、郵遞寄樣或者上門取樣。

    3、確定報價,定制專屬方案。

    4、簽訂合同和保密協議

    5、開始規劃化實驗

    6、實驗結束后,出具原始數據檢測報告。

    6、郵寄檢測報告

    7、增值服務

    以上是關于國產拋光硅片檢測的相關介紹,其他檢測問題您可以咨詢實驗室工程師。

    為什么企業需要進行第三方檢測

    產品評估:成分分析,分析成分比例,改善生產缺陷,提升產品品質性能

    政府監管:工商檢測,市場監督,項目投標招標,申請退稅基金等

    上市品控:保證自己的產品能順利進入各種電商品臺,商超等

    打通市場:增強企業的認知可信度,擴大市場占有率,提高企業競爭力,彰顯產品品質

    工業診斷:為您解決工藝、材料中的未知物定性定量分析服務

    檢測優勢

    1、能為客戶快速制定試驗方案并且快速完成實驗項目

    2、龐大的數據庫儲備,除了已知物質,對于未知物質分析有著更豐富的經驗

    3、檢測周期短,檢測費用低,實驗方案齊全

    4、工程師根據客戶需求提供定制化實驗方案

    5、36種語言編寫MSDS報告服務

    6、多家實驗室分支,支持上門取樣/寄樣檢測服務

    硅片檢測標準(部分)

    BS ISO 14706-2000表面化學分析 用全反射X射線熒光(TXRF)分光術測定硅片的表面基本污染

    BS ISO 14706-2000(R2007)表面化學分析 用全反射X射線熒光(TXRF)分光術測定硅片的表面基本污染

    DIN 50441-4-1999半導體工藝用材料的檢驗.半導體圓片幾何尺寸的測量.第4部分:硅片尺寸,直徑、偏差、平面直徑、平面長度、平面滌度

    DIN 50441-5-2001半導體技術材料的檢驗.硅片幾何尺寸的測定.第5部分:形狀和平整度偏差術語

    GB/T 6616-2009半導體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻測試方法 非接觸渦流法

    GB/T 6617-2009硅片電阻率測定 擴展電阻探針法

    GB/T 6618-2009硅片厚度和總厚度變化測試方法

    GB/T 6619-2009硅片彎曲度測試方法

    GB/T 6620-2009硅片翹曲度非接觸式測試方法

    GB/T 6621-2009硅片表面平整度測試方法

    檢測范圍

    3英寸硅片(76.2MM)國產Silicon Wafers產品級拋光硅片(Prime)

    4英寸硅片(100MM)國產Silicon Wafers產品級拋光硅片(Prime)

    5英寸硅片(125MM)國產Silicon Wafers產品級拋光硅片(Prime)

    6英寸硅片(150MM)國產Silicon Wafers產品級拋光硅片(Prime)

    8英寸硅片(200MM)國產Silicon Wafers產品級拋光硅片(Prime)

    樣品名稱:國產拋光硅片

    檢測周期:7-15個工作日出具檢測報告(參考周期)

    檢測費用:初檢樣品,初檢之后根據客戶檢測需求以及實驗復雜程度進行報價

    國產拋光硅片檢測一般需要7-15個工作日出具檢測報告,報告支持掃碼查詢真偽。國家高新技術企業,檢測資質齊全,實驗室儀器先進,科研團隊強大,一直秉著研發貢獻精神服務客戶,全國多家實驗室分支,支持上門取樣/寄樣檢測服務。
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